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          2. 超凈高純試劑系列
            光刻膠配套試劑系列
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            酸堿類
            品名 英文名 分子式 級別
            SL UL VL(CMOS) EL
            過氧化氫 Hydrogen Peroxide,30% H2O2
            硫酸 Sulfuric Acid H2SO4
            鹽酸 Hydrochloric Acid HCL
            硝酸 Nitric Acid,70% HNO3
            發煙硝酸 Nitric Acid Fuming HNO3
            磷酸 Phosphoric Acid H3PO4
            氫氟酸 Hydrofluoric Acid HF
            冰乙酸 Acetic Acid,Glacial CH3COOH
            氨水 Ammonium Hydroxide NH3·H2O
            氟化銨 Ammonium Fluoride,40% NH4F
            氫氧化鉀溶液 Potassium Hydroxide Liquid KOH
            C-400膽堿清洗劑 Choline Hydroxide C5H15NO2
            氫氧化鈉溶液 Sodium Hydroxide Liquid NaOH
            蝕刻液
            品名 英文名 分子式 級別
            SL UL VL(CMOS) EL
            氟化銨腐蝕液(BOE) Ammonium Fluoride Etchant NH4F·HF
            氟化銨腐蝕液(BOES) Ammonium Fluoride Etchant(with Surfactant) NH4F·HF
            鋁蝕刻液 Aluminum Etchant H3PO4·HNO3·CH3COOH
            鉬蝕刻液 Mo Etchant H3PO4·HNO3·CH3COOH
            鉬鋁/鉬鋁鉬蝕刻液 MoAl/MoAlMo Etchant H3PO4·HNO3·CH3COOH
            硅蝕刻液(MAE) Silicon Etchant HNO3·HF·CH3COOH
            金蝕刻液 Au Etchant KI
            銀蝕刻液 Ag Etchant H3PO4·HNO3  

            鈦蝕刻液

            Ti Etchant HF
            鉻蝕刻液 Cr Etchant HNO3CAN    
            酸性剝離液(AP-2X) Nanostrip 2XP H2SO5  
            氫氟酸腐蝕液DHF Hydrofluoric Acid(with Surfactant) HF
            ITO蝕刻液(王水) ITO Etchant HNO3·HCI    
            ITO蝕刻液(草酸) ITO Etchant H2C2O4    
            ITO蝕刻液(FeCl3) ITO Etchant FeCl3·HCl
            溶劑
            品名 英文名 分子式 級別
            SL UL VL(CMOS) EL
            甲醇 Methanol CH3OH
            乙醇 Ethanol C2H5OH
            異丙醇 IPA CH3CHOHCH3
            丙酮 Acetone (CH3)2CO
            醋酸丁酯 n-Butyl Acetate C6H12O2
            甲苯 Toluene C6H5CH3
            二甲苯 Xylenes C8H10
            三氯乙烯 Trichloroethylene C2HCl3
            環已烷 Cyclohexane C6H12
            N-甲基吡咯烷酮 N-methyl-2-pyrrolidinone CH3N(CH2)3CO
            丙二醇單甲醚 PGME PGME
            丙二醇單甲醚醋酸酯 PGMEA PGMEA
            EL級:優于美國SEME C1標準,控制1μm顆粒,控制十多個金屬元素,單項金屬元素控制在100PPb。
            VL級:介于EL與UL之間,控制0.5μm顆粒,控制三十多個金屬元素,單項金屬元素控制在10~100PPb。
            UL級:等同于美國SEME C7標準,控制0.5、0.3μm顆粒,控制三十多個金屬元素,單項金屬元素控制在10PPb以下。
            SL級:等同于美國SEME C8標準,控制0.3μm顆粒,控制三十多個金屬元素,單項金屬元素控制在1PPb以下。
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