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          2. 超凈高純試劑系列
            光刻膠配套試劑系列
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            超凈高純試劑系列
            品名 英文名 分子式 級別
            SL UL VL EL
            過氧化氫 Hydrogen Peroxide,30% H2O2
            硫酸 Sulfuric Acid H2SO4
            鹽酸 Hydrochloric Acid HCL
            硝酸 Nitric Acid,70% HNO3
            光刻膠配套試劑系列
            品名 英文名 型號
            負膠顯影液 Negative Photoresist Developer FX-C型
            負膠顯影液 Negative Photoresist Developer FX-D型 FX-2D型
            負膠漂洗液 Negative Photoresist Rinse FP-01型
            負膠顯影漂洗液 Negative Photoresist Developer and Rinse MD-B型、MD-C型
             
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